1200℃高校實(shí)驗坩堝爐訂做主要用途：
AFD-1200-LG坩堝爐各項指標均達到了水平，主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導體晶片，也可用于烘燒或燒結陶瓷材料。
1200℃高校實(shí)驗坩堝爐訂做技術(shù)參數：
產(chǎn)品名稱(chēng) | 1200℃高校實(shí)驗室坩鍋爐 |
產(chǎn)品型號 | AFD-1200-LG |
爐膛有效尺寸 | 200x200mm（更多尺寸可供選擇） |
正常工作溫度 | 1100℃ |
溫度 | 1200℃ |
溫控系統 | 30段PID微電腦可編程自動(dòng)控制 （溫度控制系統采用人工智能調節技術(shù)，具有PID調節、自整定功能，并可編制30段升降溫程序）（用戶(hù)可選配液晶觸摸屏顯示） |
控溫度 | ±1℃ |
溫控保護 | 具有超溫和斷偶保護功能 |
加熱速率 | 0~20℃/分 |
加熱元件 | 合金電阻絲 |
工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶(hù)可選擇定制） |
大功率 | 3KW |
溫度測試元件 | K型熱電偶測溫，正后方測溫 |
| 爐殼溫度 | ≤45℃ |
凈重 | 80KG |
提供相關(guān)配件 | 坩堝鉗、高溫手套、熱電偶、門(mén)堵 |
電氣認證 | CE認證 |
在線(xiàn)交流
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